在洁净室清洗洁净工作服过程中应注意的事项如下：
1.新缝制的洁净工作服可直接进行洗涤，而回收穿过的洁净工作服发现油污，应仔细去除油污再进行洗涤程序。
2.洗涤前要对擦破、损坏及搭扣等附属品进行检查，对有缺陷的要修理、更换或报废。
3.必须在比使用工作服的洁净室的洁净度高的洁净室中进行清洗、烘干、捆包。
4.湿式、干式清洗用的水要过滤，溶剂也要蒸馏之后在使用点上用小于0.2μm孔径的滤膜，根据需要进行一次以上的过滤。
5.为了除去水溶性污染物，用清水洗涤后，再用蒸馏过的溶剂进行后的洗涤，除去油性污染物。
6.湿式洗涤用水温度如下：聚酯布 60-70C 蕞高70C. 尼龙布 50-55C 蕞高60C.
7.在后漂洗透水时，可以用抗静电剂以提高抗静电特性，但选用的抗静电剂应与纤维结合良好，无粉尘脱落。
8.有搭扣的工作服，应在扣合状态下洗涤。净化车间
9.在洗涤的洁净空气循环系统中进行干燥。
洁净室中的温湿度控制：
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。
无尘净化车间洁净棚的优势，施工速度快，安装方便，操作简便灵活，可移动。成本较低，维护方便，对楼层高度低不限。容易控制，FFU每台自带风机。洁净棚的框架一般有三种：不鏽钢方通，铁方通，铝型材。洁净棚顶部材料一般有三种，不鏽钢板，冷轧钢板喷塑，防静电网格围帘，有机玻璃。洁净送风部分，一般选择FFU层流罩（FFU风机过滤单元）洁净棚的围护材料一般包括：防静电围帘，（防静电）有机玻璃。无尘净化车间清洁洁净室的地面应使用拖把。在洁净室里吸尘应使用带有高效过滤器的真空吸尘器。所有的门都需要检查并擦干，吸完地以后再擦地。一周擦一次墙面，架空地板下也要吸尘及擦拭。三个月擦一次架空地板底下的柱子和支撑柱。工作时一定要记住，永远是由上往下擦，从离门远的地方向门的方向擦。
洁净室之定义：
洁净室，亦称为无尘室或清净室。它是污染控制的基础。没有洁净室，污染敏感零件不可能批量生产。在 FED-STD-2里面，洁净室被定义为具备空气过滤、分配、优化、构造材料和装置的房间，其中特定的规则的操作程序以控制空气悬浮微粒浓度，从而达到适当的微粒洁净度级别。
液体制剂GMP车间工艺流程设计应保证产品质量符合规定的标准，深圳昊宸环境工程有限公司一般会采用成熟、先进的技术和设备；尽量减少“三废”排放量，使用尽可能少的能耗；具有柔韧性，在不同条件下能够正常操作的能力；具有良好的经济效益；确保安全生产，保证人身和设备的安全。
以上信息由专业从事净化空调设计的晴朗净化于2025/2/1 17:53:52发布
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